納米壓印技術(shù)簡(jiǎn)介
Nanoimprinting Technology (NIL) 納米壓印技術(shù)是制備納米尺度圖案的一種方法。這種方法工藝簡(jiǎn)單，成本低廉，可大規(guī)模生產(chǎn)，且生產(chǎn)出來(lái)的圖案具有很高的分辨率。在這里，納米尺度的圖案是由壓印模具壓印光刻膠再加上后續(xù)的工藝步驟制備形成的。光刻膠一般由單分子或聚合物構(gòu)成，且固化方式為熱固化或紫外固化。壓印模具與光刻膠之間的粘附力需要被精確控制以獲得最合適的壓印效果。
NIL技術(shù)廣泛應(yīng)用于電子學(xué)、光子學(xué)、光電子學(xué)和生物等領(lǐng)域。在電子學(xué)領(lǐng)域，NIL技術(shù)已經(jīng)被用來(lái)制備場(chǎng)效應(yīng)管（MOSFET），有機(jī)薄膜晶體管（O-TFT）和單電子存儲(chǔ)器等；在光子學(xué)和光電子學(xué)領(lǐng)域，NIL技術(shù)在亞波長(zhǎng)的共振光柵過(guò)濾器，偏振鏡，波片，抗反射結(jié)構(gòu)，光子集成電路以及等離子器件等方面都有深入的研究和應(yīng)用。另外，Sub-10 nm的微流控通道被用于DNA的拉伸試驗(yàn)就是由NIL技術(shù)制備而成的。近來(lái)，NIL技術(shù)被用來(lái)縮小生物分子排序器件的尺寸使得排序的量級(jí)更小，更有效。
NIL技術(shù)最大的優(yōu)點(diǎn)是其工藝簡(jiǎn)單。與芯片制造相關(guān)聯(lián)的一個(gè)最大成本是用于印刷電路圖案的光刻工具。光學(xué)光刻技術(shù)需要高功率紫外線激光和大量的精密透鏡來(lái)實(shí)現(xiàn)納米級(jí)的分辨率。而NIL技術(shù)不需要復(fù)雜的光學(xué)系統(tǒng)和高功率的激光源，也不需要根據(jù)給定分辨率和波長(zhǎng)的靈敏度來(lái)設(shè)計(jì)合適的光刻膠。因此，該技術(shù)的簡(jiǎn)化要求造就了其成本的低廉。
NIL技術(shù)是一種固有的三維圖案化技術(shù)。壓印模具可以由多層垂直堆疊的方法來(lái)制備。兩層結(jié)構(gòu)的復(fù)制只需要一個(gè)壓印步驟，這使得芯片制造商可以降低芯片制造成本，提高產(chǎn)品的生產(chǎn)量。如上所述，納米壓印材料不需要調(diào)成為對(duì)給定波長(zhǎng)的光具有高的分辨率和靈敏度。因此，更大范圍的不同性能的材料都可以應(yīng)用在納米壓印技術(shù)中。這種增加了的材料可變性，給化學(xué)家們提供的更自由的空間去設(shè)計(jì)新功能材料，而不是犧牲抗腐蝕性的聚合物材料。一種功能材料也許可以直接通過(guò)納米壓印在芯片上形成圖案而不需要放在下面的轉(zhuǎn)移層材料。成功的使用一種新型功能材料可以有效的降低生產(chǎn)成本，并通過(guò)減少許多困難的制造工藝來(lái)提高生產(chǎn)能力。
一. 納米壓印膠：
1、產(chǎn)品簡(jiǎn)介
UV-NIL photoresist為自主研發(fā)，是自主研發(fā)環(huán)境友好型紫外納米壓印膠。可根據(jù)客戶需要，訂制指定厚度（3500rpm）的納米壓印膠（厚度偏差±10nm）， 厚度100-1000nm。
2、產(chǎn)品技術(shù)特點(diǎn)
1、低粘度紫外納米壓印用光刻膠，≤50mPa·s；
2、壓印結(jié)構(gòu)精度高，≤15nm；
3、可實(shí)現(xiàn)高深寬比結(jié)構(gòu)材料壓印(3:1);
4、適用于藍(lán)寶石、石英、硅、鎳、PDMS、以及聚合物復(fù)合壓印模板材料;
5、適用于藍(lán)寶石、石英、硅、鎳、PDMS、GaAs、InP、GaN、Ti、Au、PE等多種基底材料；
6、有機(jī)無(wú)機(jī)混合材料，提高了壓印膠的抗刻蝕性；
7、可在常規(guī)條件下實(shí)現(xiàn)快速固化，無(wú)須真空無(wú)氧環(huán)境；
8、低壓壓印工藝過(guò)程，調(diào)節(jié)工藝條件殘余層厚度可控制在10nm以下。
二、模具防粘處理試劑：
5g/10g包裝
三. 納米壓印模板
1.常規(guī)模板制作
根據(jù)客戶要求定制模板（Si/Quartz），襯底大小可選，圖形最大可至6inch，周期最低50nm，可靈活設(shè)計(jì)多種模板。所有模板均可進(jìn)行抗粘附處理。
這種納米柱模具可以應(yīng)用在光子晶體和納米模具領(lǐng)域，以及很多潛在的領(lǐng)域：
磁性納米結(jié)構(gòu)
LED光抽取層，光伏圖形化
晶體生長(zhǎng)模板
納米壓印工藝開發(fā)
光子/等離子體結(jié)構(gòu)
生物納米技術(shù)
2.軟模板/復(fù)合模板加工
擁有軟模/復(fù)合模板復(fù)制技術(shù)，可根據(jù)客戶要求訂做相應(yīng)規(guī)格的PDMS，PDMS復(fù)合（PET、PC）壓印模板。
四、軟膜制作材料
硬模板制作PDMS軟模板材料， 產(chǎn)品分為：UV型快速制作型和熱固化型。
